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混氣系統2路質子GSL-2Z是用于控制一種或兩種的氣體流經真空密封的管式爐，這種氣體控制系統安裝在移動架內，管式爐可以放在移動架上面，氣體控制系統的前面板上有控制并顯示氣體流量的調節閥，可以用于CVD系統及退火爐，用來研究氣體環境對材料的影響，在半導體和集成電路工業、特種材料學科、化學工業、石油工業、醫藥、環保和真空等多種領域的科研和生產中有著重要的作用，廣泛應用于電子工藝設備，如擴散、氧化、外。

混氣系統3路質子GSL-3Z是用于控制一種到三種的氣體流經真空密封的管式爐，這種氣體控制系統安裝在移動架內，管式爐可以放在移動架上面，氣體控制系統的前面板上有控制并顯示氣體流量的調節閥，可以用于CVD系統及退火爐，用來研究氣體環境對材料的影響，在半導體和集成電路工業、特種材料學科、化學工業、石油工業、醫藥、環保和真空等多種領域的科研和生產中有著重要的作用，廣泛應用于電子工藝設備，如擴散、氧化、外延

混氣系統4路質子GSL-4Z是用于控制一種到四種的氣體流經真空密封的管式爐，這種氣體控制系統安裝在移動架內，管式爐可以放在移動架上面，氣體控制系統的前面板上有控制并顯示氣體流量的調節閥，可以用于CVD系統及退火爐，用來研究氣體環境對材料的影響，在半導體和集成電路工業、特種材料學科、化學工業、石油工業、醫藥、環保和真空等多種領域的科研和生產中有著重要的作用，廣泛應用于電子工藝設備，如擴散、氧化、外延

小型兩通道供氣系統CGM-2F是一種緊湊型雙通道微量氣體混合供氣系統，輸入的兩種不同氣體通過調節壓力和流量，即可輸出一種較準確的混合性氣體，可用以小型管式爐、手套箱、等離子清洗機、小型PECVD系統。

多路浮子控制供氣系統GSL-3F適用于控制一種到三種氣體的通入，管式爐可以置于其上，可用于CVD系統及退火爐，可用來研究氣體環境對材料的影響。

精密氮氣發生器DFN-500是一種小型高純度氣體發生器，它產生氣體的速率可達到500ml/min，且氣體純度99.99%，是化學和材料實驗室的理想設備。